Ликсутов: на заводе «Микрон» разработали первый российский фоторезист на 90 нанометров

Первый отечественный фоторезист для производства микросхем по 90-нанометровому технологическому процессу проходит испытания на заводе «Микрон» — резиденте особой экономической зоны «Технополис Москва». Об этом сообщил заместитель мэра по вопросам транспорта и промышленности Максим Ликсутов. «Это станет настоящим прорывом для отрасли», — добавил он. Внедрение такого фоторезиста позволит предприятию отказаться от зарубежных аналогов и постепенно перейти российскую компонентную базу в сфере сверхчистых и новых материалов. Разработкой изделия занимался НИИ молекулярной электроники. Фоторезист наносится на кремниевую подложку, которую облучают с помощью фотолитографа через специальный шаблон. После многократного облучения на пластине создается рельефный «рисунок» микросхемы. В России такие изделия производят только на «Микроне», и начало производства станет важной вехой для предприятия. «Его чипы используются в банковских картах НСПК „Мир“, загранпаспортах, водительских удостоверениях, транспортной карте „Тройка“, школьной карте „Москвенок“», — добавил министр правительства Москвы, руководитель Департамента инвестиционной и промышленной политики Анатолий Гарбузов. Также в ОЭЗ разработали первый отечественный фотолитограф для 350-нанометрового технического процесса.